EVO
EVO
Die ZEISS EVO Serie bietet Ihnen die Kombination von High Definition Rasterelektronenmikroskopie mit intuitiver Benutzerfreundlichkeit wahlweise mit Wolfram oder LaB6 Kathode
Profitieren Sie von der langjährigen Erfahrung von Zeiss bei der Bildgebung unter Hochvakuum (HV), variablem Druck (VP) und erweitertem Druck (EP). Signifikante Verbesserungen in Signalausbeute und Kontrastverhältnis sind der erste Schritt, die Effizienz der Bildgebung zu erhöhen. Das Zeiss EVO ist ein einfach zu bedienendes, hochflexibles und hochauflösendes Bildgebungs- und Analyse-Tool und liefert schnell, präzise und reproduzierbare Ergebnisse aller Proben, sei dies im Bereich der Materialwissenschaften (mit dem EVO MA) oder im Bereich der Biologie (EVO LS). Insbesondere mit der SmartSEM Touch Software für intuitive Bedienung verbessern Sie die Produktivität und reduzieren den Schulungsaufwand für weniger geübte Benutzer. Ermöglichen Sie allen Benutzern die Generierung hervorragender Bilder und bearbeiten Sie im Hochdurchsatz Ihre Workflows in der visuellen Inspektion.
Eine Auswahl an Kammergrössen und Detektoren ermöglicht Ihnen die optimale Konfiguration des Geräts für Ihre Proben und bei Gloor Instruments können wir Ihnen das Gesamtpaket mit Zubehör, Installation und Service bieten.
Applikationen
Häufige Fragen
Was sind die Unterschiede zwischen dem ZEISS EVO und einem COXEM SEM?
Das ZEISS EVO und COXEM Systeme unterscheiden sich vor allem in Leistungsfähigkeit, Flexibilität und Platzbedarf.
ZEISS EVO – Vorteile:
Das EVO bietet eine höhere Auflösung sowie eine größere Probenkammer und ist standardmäßig mit einem 5-Achs-motorisierten Tisch ausgestattet. Dank besserer Abschirmung ist es weniger anfällig für Umwelteinflüsse wie Vibrationen oder elektrische Felder. Zudem ist das System durch zusätzliche Ports flexibel für zukünftige Erweiterungen mit Detektoren ausgelegt.
ZEISS EVO – Einschränkungen:
Der Platzbedarf ist vergleichsweise groß.
COXEM – Vorteile:
COXEM Systeme sind kompakt, benötigen wenig Platz und sind besonders benutzerfreundlich. Dadurch eignen sie sich ideal für einfache Anwendungen und einen schnellen Einstieg.
COXEM – Einschränkungen:
Im Vergleich zum EVO sind sie empfindlicher gegenüber Umwelteinflüssen, verfügen über eine kleinere Probenkammer und bieten eine geringere Auflösung (<10 nm). Ein 5-Achs-Tisch ist nur mit zusätzlichem Probenhalter realisierbar.
Was sind die Unterschiede zwischen dem ZEISS EVO und dem ZEISS Sigma?
Das ZEISS Sigma und das ZEISS EVO decken unterschiedliche Anforderungen in der Rasterelektronenmikroskopie ab und bieten jeweils spezifische Vorteile.
ZEISS Sigma – Vorteile:
Das Sigma überzeugt durch eine höhere Auflösung, stärkere Strahlintensität und bessere Ergebnisse bei niedrigen kV. Die In-Lens-Detektion ermöglicht detaillierte Oberflächenanalysen. Erweiterte Funktionen wie ein 5-Achs-euzentrischer Tisch (Sigma 560), optionaler Airlock für schnellen Probentransfer sowie eine STEM-Option bieten zusätzliche Flexibilität. Zudem ist die Strahlführung einfacher und präziser zu handhaben.
ZEISS Sigma – Einschränkungen:
Für den Betrieb werden Druckluft und eine externe Kühlung benötigt. Zudem sind die Kosten für die Kathode und deren Austausch höher.
ZEISS EVO – Vorteile:
Das EVO punktet mit einfacherem Betrieb und geringeren Betriebskosten. Der Kathodenwechsel kann vom Anwender selbst durchgeführt werden. Dank Doppelkondensor und Luftkühlung ist das System robust und wartungsarm.
ZEISS EVO – Einschränkungen:
Im Vergleich zum Sigma sind Auflösung, Strahlintensität und Justierungsmöglichkeiten eingeschränkt.
Wir freuen uns auf Ihre Anfrage!